Цивилизация
Массачусетский технологический институт в лице Марка Шаттенберга и Ральфа Хелманна подарил миру надежду на скорое распространение нового метода литографии для индустрии нанотехнологий. Метод отличается тем, что позволяет получать с помощью травления периодические структуры на подложке размер которых может составлять всего 25 нанометров. Самые передовые технологии, которыми пользуются гиганты индустрии микропроцессоров, позволяют в наши дни работать с размерами от 65 нанометров.
Технология, разработанная бостонскими специалистами и их подопечными студентами, не только позволяет уже сегодня получать периодические наноструктуры с размером, анонсированным традиционными методиками лишь к 2015 году. Она существенно проще и дешевле в реализации, а потому может вдохнуть вторую жизнь в наноразработки многих университетов, чахнущих в лабораториях, не имеющих могучей финансовой поддержки.
Новая технология получила название сканирующей лучевой интерференционной литографии (scanning-beam interference lithography, SBIL). Она базируется на известной технологии интерференционной литографии, которую ученые дополнили применением своей собственной разработки, названной нанолинейкой. Технология подразумевает использование звуковых волн с частотой 100 МГц для контроля, дифракции и частотного сдвига волны лазерного излучения, создающего литографический рисунок на поверхности подложки.
В результате можно быстро, легко, дешево и очень точно осуществлять литографию даже очень больших поверхностей.
Разработчики, представившие свои достижения для публикации в следующем номере журнала Optic Letters и на 52-й ежегодной Международной конференции по электронным, ионным и фотонным лучевым технологиям и нанопроизводству в американском городе Портленде. Они уверены, что их технология позволяет добиться предельного разрешения литографии, и дальнейшее уменьшение элементов нанострструктур будет лимитироваться неровностями материала подложки.
