Цивилизация
В России пока могут создать лишь 180–130 нм чипы, несмотря на то, что в мире этот показатель достигает 13 нм, рассказал «Газете.Ru» главный разработчик прорывного отечественного литографа, создаваемого с участием научной кооперации Национального центра физики и математики (НЦФМ), заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Чхало.
«В России самое передовое предприятие из работающих – это завод «Микрон». На «Микроне» технология 180–130 нм, говорится о 90 нм. Это именно рисование. То есть по разрешению литографии мы отстаем на порядок, а по плотности двумерного рисунка на два порядка», – заявил Чхало.
По мнению физика, чтобы создать в России отечественный литограф, необходима колоссальная кооперация, но специалисты, которые представляют, как создаются самые передовые литографы, в стране есть.
«Мы действительно понимаем, как нужно эту работу делать. Институт физики микроструктур РАН долгие годы работал совместно с ASML (голландской компанией — разработчиком самых передовых литографов), мы видели стандарты работы, видели, как строятся литографы. Кроме того, мы тоже вносили свой вклад. У нас больше сотни публикаций, причем большинство в зарубежных журналах, со специалистами ASML больше двадцати совместных патентов. Поскольку мы понимаем в этой теме, мы видим, где можем обойти проблемы, над которыми ASML бился десятилетиями», – объяснил Чхало.
О том, как давно в Россию запретили продавать передовое оборудование для печати микросхем, каковы перспективы развития отечественной литографии и кто в мире производит передовые литографы – в интервью «Газеты.Ru».